一、由于常壓等離子的噴嘴中是直噴出的離子，這種情況由噴嘴的結(jié)構(gòu)間接的改變了離子的運動方向（直接面對被處理材料）。從而使大氣等離子在流水線上只能處理一個表面，這也是與真空等離子清洗*大的區(qū)別之一。真空等離子清洗機在工作中，腔體內(nèi)部的離子是不定向的，只要材料在腔體裸露出的部分，不管是哪個面哪個角落都可以清洗得到。

二、在使用氣體方面，大氣型等離子工作時只需要接入壓縮空氣，當(dāng)然想效果更好直接接入氮氣。而真空型等離子清洗機在氣體上會有更多的選擇，并且可以選擇多種氣體進行匹配對材料表面氧化物、納米級別微生物的去除有著極強的改善。在這里要強調(diào)的是：大氣型通入氣體的目的主要是為了活化，侵潤性增強。而真空型通入氣體的目的是為了增強蝕刻效果，去除污染物，去除有機物，侵潤性增強等。顯然氣體的選擇范圍更廣，真空等離子清洗的工藝會應(yīng)用得更為廣泛。

三、溫度。大氣等離子清洗機雖然處理材料幾秒之后的溫度在60°-75°左右，但這個數(shù)據(jù)是按照噴槍距離材料15mm，功率在500W，配合在三軸速度為120mm/s來測的。當(dāng)然功率，接觸時間，處理的高度都會對溫度有所影響。特別注意的是：大氣等離子清洗機噴槍工作時的噴出的“火焰”分為內(nèi)焰和外焰，我們清洗時都是拿外焰去洗，內(nèi)焰在噴嘴里面，從外面是看不到的。但是如果在噴出“火焰”的情況下長時間對著某一個點不運動進行處理很容易對表面產(chǎn)生灼燒。所以大氣等離子的溫度要在實際工況下才能測得具體數(shù)值。

而真空型等離子清洗機就沒那么復(fù)雜，按電源頻率劃分，40KHz和13.56MHz為例：通常情況下材料放入腔體內(nèi)工作，頻率為40KHz一般溫度為65°以下，再者機器內(nèi)部裝有強冷風(fēng)扇，處理時間不長的話，材料表面溫度都會跟室溫一致。頻率為13.56MHz的就會更低，通常情況是30°以下。所以處理一些受熱易發(fā)生形變的材料，低溫真空型等離子清洗機的是在再適合不過了。

四、離子產(chǎn)生條件，這個比較直觀的就可以看出，大氣型依賴接入氣體，氣體壓力要達到0.2mpa左右才可以產(chǎn)生離子。而真空型則依賴于真空泵，產(chǎn)生離子之前，即使不接入任何外接氣體，要將腔體內(nèi)部的真空度抽到25pa以下才能產(chǎn)生離子。