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技術(shù)交流

等離子處理技術(shù)維護注意事項

發(fā)布時間:2023/6/13 8:00:41 | 信息來源:
收藏本文章 | 復(fù)制本頁鏈接 | 打印本頁 | 瀏覽:178 次 | 點此瀏覽更多 《技術(shù)交流》 | 【關(guān)閉窗口
當今,等離子處理技術(shù)被廣泛應(yīng)用于材料表面處理和改性方面。 它通常使用在氣體相反應(yīng)室中產(chǎn)生的高溫、高能量電離氣體等離子體來處理物質(zhì)表面。 等離子體是一種由高能離子、原子和自由基組成的高度活躍的氣態(tài)。


等離子體產(chǎn)生的方式有許多種,包括電弧放電、RF放電、微波放電、脈沖放電等。不同類型的等離子發(fā)生器會影響到等離子鍋爐的工作效率和特征,這也是一個非常重要的問題。


而將等離子體應(yīng)用于材料表面處理上,則可以通過等離子體的高能量作用于物質(zhì)表面來改變其化學和物理性質(zhì),即所謂的等離子處理。等離子處理可以使物料表面結(jié)構(gòu)發(fā)生改變,進而提高其化學惰性、耐磨性、耐腐蝕性和界面附著性等性能。


等離子處理的機理主要來自于等離子體對表面的化學性質(zhì)和結(jié)構(gòu)具有顯著的影響。 高能量等離子體中存在大量自由基、激發(fā)態(tài)原子和離子,這些活性物質(zhì)能夠與材料表面上的化學成分進行反應(yīng),并導致表層物質(zhì)發(fā)生化學變化。


例如,氧離子在等離子處理中可以被用來氧化表面,從而使表面生成一定厚度的金屬氧化物。 與此同時,離子轟擊和沉積可以導致表層物質(zhì)生長、縮短撞擊而導致失蹤, 鈍化表面原子并提高界面深度和耐久性。 等離子處理還可激活材料表面,促進其吸附和潤濕性能。


值得注意的是,等離子處理后多久有效受到許多因素的影響,包括表面材料的種類和形狀、等離子體處理參數(shù)和條件、環(huán)境濕度、溫度等。在實踐中, 大多數(shù)等離子處理數(shù)據(jù)都是通過定期測試表面性能的總體變化來確定其有效時間。


近年來,隨著等離子處理技術(shù)的不斷發(fā)展和完善,已經(jīng)發(fā)展出了許多新型的等離子發(fā)生器和處理方法,如等離子共聚變(ICP)和微波氣體放電等離子體等。 這些新技術(shù)的應(yīng)用,為以后改進、提高等離子處理效果和表面材料性能提供了重要方法。


總之,等離子處理是一種主要通過改變物料表面結(jié)構(gòu)、形態(tài)和化學組成來增強其性能的表面工藝方法。 實際運用中,等離子處理的有效時間受到多個因素的影響。 等離子技術(shù)的進步也將不斷完善等離子處理技術(shù),并推動其更廣泛的應(yīng)用。一、等離子設(shè)備日常維護


(一) 等離子發(fā)生器的維護


定期清理等離子發(fā)生器內(nèi)部的外殼及排氣口灰塵。建議至少每月檢查一次;
定期更換等離子源體;
定期檢查掌握等離子發(fā)生器的加工系統(tǒng)參數(shù),確保其正常工作;
注意等離子源的調(diào)整,增大等離子體流量,經(jīng)常清洗導體;
(二)易損件維護


定期檢查并更換設(shè)備中的易損件,如膜片、密封圈、電極等,防止其損壞影響設(shè)備正常工作;
每半年對快門桿和氣壓控制進行檢查和校準,避免出現(xiàn)誤差。
(三)其他維護注意事項


定期更換老化、損壞的電纜線;
定期校準空氣壓力表和溫度計等,確保其精確度;
加油、更換機器油。
二、等離子設(shè)備故障排除


如果出現(xiàn)故障,需要先確定故障原因才能進行修理。以下是常見故障排除方法:


(一)等離子體丟失或流量減少


檢查配合的真空泵是否正常開啟,系統(tǒng)管道是否漏氣。
檢查減壓閥門是否被堵塞;
檢查氧流量計、氣體流量計、陶瓷燃燒嘴等部件是否有損傷。
(二)設(shè)備火花分析效果差


先檢查離子發(fā)生器內(nèi)部是否有雜質(zhì);
調(diào)整電極間距,確認裝置無松動現(xiàn)象;
更換發(fā)光信號紙片窯。在線等離子清洗機在清洗對象的工藝處理效率


一、清洗對象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的,不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序,可以提高整個工藝流水線處理效率;


二、在線等離子清洗使得用戶可以遠離有害溶劑對人體的傷害,同時也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題;


三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑,這樣清洗后不會產(chǎn)生有害污染物,因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。這在全球高度關(guān)注環(huán)保的情況下越發(fā)顯出它的重要性;


四、采用無線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同。等離子體的方向性不強,這使得它可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務(wù),因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀。而且對這些難清洗部位的清洗效果與氟利昂清洗的效果相似甚至更好;


五、使用在線等離子清洗,可以使得清洗效率獲得極大的提高。整個清洗工藝流程幾分鐘內(nèi)即可完成,因此具有產(chǎn)率高的特點;


六、在線等離子清洗需要控制的真空度約為100Pa,這種清洗條件很容易達到。因此這種裝置的設(shè)備成本不高,加上清洗過程不需要使用價格較為昂貴的有機溶劑,這使得整體成本要低于傳統(tǒng)的濕法清洗工藝;


七、使用在線等離子清洗,避免了對清洗液的運輸、存儲、排放等處理措施,所以生產(chǎn)場地很容易保持清潔衛(wèi)生;


八、在線等離子體清洗可以不分處理對象,它可以處理各種各樣的材質(zhì),無論是金屬、半導體氧化物,還是高分子材料都可以使用等離子體來處理。因此特別適合于不耐熱以及不耐溶劑的材質(zhì)。而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復(fù)雜結(jié)構(gòu)進行部分清洗;


九、在完成清洗去污的同時,還可以改善材料本身的表面性能。如提高表面的潤濕性能、改善膜的黏著力等,這在許多應(yīng)用中都是非常重要的。

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